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  Ensino Superior

FMP/Fase oferece novo curso de pós-graduação em Dermatologia


 A Faculdade Arthur Sá Earp Neto (FMP/Fase) está com inscrições abertas para o novo curso de pós-graduação em Dermatologia, que terá início em junho deste ano. As aulas ocorrerão no Hospital Central do Exército, no Rio de Janeiro, que é credenciado pela Sociedade Brasileira de Dermatologia - SBD para o ensino e a pesquisa na área.

O curso permitirá ao médico obter conhecimentos e habilidades necessários ao exercício da especialidade, preparando-o para o concurso de obtenção do título de especialista pela SBD, bem como para os desafios do mercado de trabalho atual. As aulas serão realizadas de segunda a sexta-feira, das 08h às 17h, com carga horária de 5.940 horas e duração de 36 meses.

“Os profissionais que participarem do curso serão preparados para serem capazes de diagnosticar e tratar as doenças da pele, cabelos, unhas e mucosas visíveis, e também das subáreas da Dermatologia: Dermatologia pediátrica, Dermatologia sanitária (Hanseníase, DST), Imunossupressores e Imunobiológicos. Nosso objetivo é preparar o aluno para obtenção do título de especialista pela Sociedade Brasileira de Dermatologia/Associação Médica Brasileira”, destaca a coordenadora da Pós-Graduação em Dermatologia da FMP/Fase, Leninha Valério do Nascimento, Phd em Dermatologia.

O curso abrange conhecimentos referentes às áreas fundamentais de formação do especialista, incluindo também a dermatologia geral, dermatocirurgia, dermatopatologia, fototerapia, oncodermatologia, cosmiatria, dermatoscopia, e ambulatório de doenças dos cabelos e unhas.

Durante o curso serão realizados atendimentos supervisionados nos ambulatórios das subespecialidades e na enfermaria de dermatologia e clínica médica, tudo isso apoiado por um programa de aulas teóricas e práticas cuidadosamente desenvolvido por profissionais de grande experiência na área do ensino dermatológico nacional. Outras informações sobre a pós-graduação e as inscrições estão disponíveis no site: www.fmpfase.edu.br.  

 

 



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